「光刻机」EUV光刻机也搞不定的1nm以下芯片制程用它秒解决可做到0.768nm

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众所周知，目前 5nm 及以下的尖端半导体制程必须要用到价格极其高昂的 EUV 光刻机，ASML 是全球唯一的供应商。

更为尖端 2nm 制程的则需要用到 ASML 新一代 0.55 NA EUV 光刻机，售价或高达 4 亿美元。

Intel 正计划利用新一代 0.55 NA EUV 光刻机来开发其 Intel 20A（2nm）及 18A（1.8nm）制程。但是，要想实现 1nm 以下的更先进的制程，即便是 ASML 新一代 0.55 NA EUV 光刻机也束手无策。

近日美国一家旨在开发和商业化原子精密制造 ( APM ) 技术的公司 Zyvex Labs 宣布推出了全球分辨率最高的亚纳米分辨率光刻系统 "ZyvexLitho1"。

它并没有采用 EUV 光刻技术，而是基于 STM 扫描隧道显微镜，使用的是电子束光刻（EBL）方式，可以制造出具有 0.768nm 线宽（相当于 2 个硅原子的宽度）的芯片，精度远超 EUV 光刻机

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